臺積電稱N3E即將投產
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臺積電稱N3E即將投產,近期摩根士丹利的報告指,在N3基礎上擴展的N3E已提前準備好了,工藝流程可能會在這個月底確定。臺積電希望能更早地實現商業化,臺積電稱N3E即將投產。
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臺積電正在開發多個 N3 節點,目前至少 N3、N3B 和 N3E 正在開發中。N3 計劃於 2023 年投產,N3E 節點原定於 2024 年投產,但現在看來它會提前準備就緒。N3E 節點原本是 N3 節點的增強版本,但現在它似乎更像是一個替代節點,基於更少的 EUV 層,據說從 25 層降至 21 層,這將使其更容易製造。
根據摩根士丹利的詳細信息, N3E 節點的密度比原始 N3 節點低 8% 左右,但仍比 N5 節點高 60% 左右。相比之下,據說 N3 節點的邏輯密度比 N5 節點高 70%。
該報告表明,N3E 節點可能會在本月底完成,這意味着從 23 年第 3 季度到 23 年第 2 季度,整個季度的生產可能最終會被拉動。
N3E 節點“具有改進的製造工藝窗口,具有更好的性能、功率和產量”,因此我們可能會看到 N3E 節點被幾乎所有正在尋求製造高性能硅的人用於未來產品。
N3E 節點的產量也高於 N3B 節點,據說 N3B 是針對某些客戶的 N3 的改進版本。目前對 N3B 節點知之甚少。
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臺積電(TSMC)目前正在N3製程節點上開發多個工藝,包括了N3、N3B和N3E。去年臺積電總裁魏哲家表示,N3製程節點仍使用FinFET晶體管的結構,推出的時候將成爲業界最先進的PPA和晶體管技術,同時也會是臺積電另一個大規模量產且持久的製程節點。
據TechPowerup報道,近期摩根士丹利的報告指,在N3基礎上擴展的N3E已提前準備好了,工藝流程可能會在這個月底確定。臺積電原計劃在2022年下半年量產N3製程節點,N3E作爲3nm工藝中的簡化版本,量產時間爲2023年下半年。由於N3E測試生產的時候良品率較高,臺積電希望能更早地實現商業化,可能會提前到2023年第二季度。
據瞭解,N3E在N3基礎上減少了EUV光罩層數,從25層減少到21層,邏輯密度低了8%,但仍然比N5製程節點要高出60%。此外,N3E的良品率也高於N3B,後者傳言是針對某些客戶使用而開發的N3改進版本,不過目前缺乏相關信息。無論N3E還是N3B,都不是用於取代N3,只是讓客戶有更多的選擇,在不同產品上有更好的性能和功耗表現。
芯片測試設備製造商Teradyne表示,2023年對3nm芯片的`需求會有明顯的增長,雖然像蘋果這樣的公司最早在2023年初就能得到首批3nm芯片,但其他廠商最快可能在2023年下半年就能跟進。
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據techpowerup報道稱,臺積電正在開發3nm的工藝製程,包括了N3、N3B和N3E多個節點。
據瞭解,臺積電原計劃在2022下半年量產N3節點,N3E量產計劃爲2023年下半年。
但由於作爲3nm簡化版的N3E節點,量產率較高,臺積電希望早日實現商業化,可能提前到2023年上半年。
N3E的工藝流程也已經提前準備好了,工藝流程在這個月底就會確定。
據悉,N3E在N3基礎上減少了EUV光罩層數,從25層減少到21層,邏輯密度低了8%,不過仍比5nm的N5製程節點要高出60%,並且具有更好的性能、功耗和產量。
相比之下,據說N3的邏輯密度比N5高 70%。
還有N3B,據說是針對某些客戶的 N3 的改進版本,不過我們目前對N3B節點知之甚少。
無論N3E還是N3B,都不是用於取代N3,只是讓客戶有更多的選擇,在不同產品上有更好的性能和功耗表現。
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